10L真空反應釜的清洗主要有化學清洗和機械清洗兩大類方法：
1、化學清洗：首先要知道設備內的垢樣成分，是取樣分析。確定污垢成分后先做試驗，選用清洗劑同時通過試驗確定對設備金屬不會造成腐蝕。然后通過現(xiàn)場架設臨時循環(huán)裝置將清洗液在設備內循環(huán)流動，洗去污垢。
2、機械清洗：采用高壓清洗裝置，將150-200MPa的高壓水通過噴頭沖刷污垢。
兩種方法各有利弊，化學清洗用工少，清洗時間短，清洗*，但是可能會造成設備被腐蝕；機械清洗不會對設備產生腐蝕，對硬垢可以有效清洗，但是用時長、勞動強度大。因此化學清洗應用在污垢較軟、薄的工況，機械清洗應用在污垢硬、厚的工況。

10L真空反應釜常為閉式容器，由于工藝條件，介質不同，10L真空反應釜的材料選擇及結構也不一樣，但基本組成是相同的，它包括釜體、工藝接管、傳動裝置等。每一種結構都有他的適用范圍和優(yōu)缺點。根據(jù)反應釜的密封型式不同可分為：填料密封，機械密封和磁力密封。
 

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